磁记录存储
硬盘等磁数据存储介质是计算机中最重要的部件之一。随着计算机广泛应用于人类的生产生活，磁数据存储介质的市场需求量和存储密度等性能指标均取得了跨越式发展。
硬盘碟片主要由记录层、中间层、软磁底层等组成。物理气相沉积技术是硬盘盘片的主要涂覆技术，利用不同的靶材产品在真空镀膜系统中在铝合金或玻璃基片上涂覆复合膜层以实现数据存储的功能。涉及靶材品种也很多，记录层中主要需要含Pt的多元合金靶和一些陶瓷靶，如CoCrPtB靶、SiO2等。中间层主要用到Ru及其合金靶。而软磁底层材料主要用到一些非贵金属靶。我们可以为软磁层材料提供镀膜靶。主要产品有Cr及Cr合金、Ni及NiW合金、CoFe合金等。
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磁记录存储
硬盘等磁数据存储介质是计算机中最重要的部件之一。随着计算机广泛应用于人类的生产生活，磁数据存储介质的市场需求量和存储密度等性能指标均取得了跨越式发展。
硬盘碟片主要由记录层、中间层、软磁底层等组成。物理气相沉积技术是硬盘盘片的主要涂覆技术，利用不同的靶材产品在真空镀膜系统中在铝合金或玻璃基片上涂覆复合膜层以实现数据存储的功能。涉及靶材品种也很多，记录层中主要需要含Pt的多元合金靶和一些陶瓷靶，如CoCrPtB靶、SiO2等。中间层主要用到Ru及其合金靶。而软磁底层材料主要用到一些非贵金属靶。我们可以为软磁层材料提供镀膜靶。主要产品有Cr及Cr合金、Ni及NiW合金、CoFe合金等。
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硬盘等磁数据存储介质是计算机中最重要的部件之一。随着计算机广泛应用于人类的生产生活，磁数据存储介质的市场需求量和存储密度等性能指标均取得了跨越式发展。
硬盘碟片主要由记录层、中间层、软磁底层等组成。物理气相沉积技术是硬盘盘片的主要涂覆技术，利用不同的靶材产品在真空镀膜系统中在铝合金或玻璃基片上涂覆复合膜层以实现数据存储的功能。涉及靶材品种也很多，记录层中主要需要含Pt的多元合金靶和一些陶瓷靶，如CoCrPtB靶、SiO2等。中间层主要用到Ru及其合金靶。而软磁底层材料主要用到一些非贵金属靶。我们可以为软磁层材料提供镀膜靶。主要产品有Cr及Cr合金、Ni及NiW合金、CoFe合金等。
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