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高纯铬靶材(4N)
4N铬靶（纯度99.99%）作为光掩模版的核心材料，在半导体和平板显示制造中扮演着不可替代的角色。其高纯度、精细加工特性直接决定了掩模版的图形精度和良品率，是推动先进制程发展的关键材料之一。
在掩模版中，铬层通过磁控溅射沉积于石英基板表面，形成遮光图形。4N铬靶因具有高刻蚀精度（可达纳米级）、均一镀膜能力及无毒稳定性，成为中高端掩模版的主流选择.相较于乳胶遮光膜或氧化铁等材料，铬膜能实现更锐利的图形边缘和更高的耐久性，适用于复杂集成电路的多次光刻工艺。
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高纯铬靶材(4N)
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成分(at%) Composition |
纯度 Purity |
密度 Desity |
晶粒度 Grain Size |
制造工艺 Process |
|---|---|---|---|---|
| Cr | 99.5% | ＞99.8% | ＜150um | 热等静压 |
| Cr | 99.8% | ＞99.8% |
＜150um |
热等静压 |
| Cr | 99.9% | ＞99.8% | ＜150um | 热等静压 |
| Cr | 99.95% | ＞99.8% |
<200um <100um |
热等静压 |
| Cr | 99.99% | ＞99.8% | <100um | 热等静压 |
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尺寸 Size(mm) |
Φ301*12 / Φ160×12 / Φ100×32 / Φ105×16 / Φ63×32 170*75*12 / 656*133*12 / 1701*132*12 长度最高可达1800mm，直径最高可达340mm |
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高效、耐用、可靠
我们生产的靶材具有卓越的纯度、密度和更小的晶粒度等优势，这在行业内有口皆碑。 这些卓越属性有助于在基材上形成更坚实、致密、光滑的涂层，从而保证您拥有高效、耐用、可靠的产品体验。 如何做到？在原料端，我们只采用高品质的原材料，并严格保证使用原材料的规范性；在生产端，我们的员工拥有数十年的生产经验，非常了解如何制造高品质的靶材产品；在质检端，规范的质检流程及专业精密设备让产品的任何瑕疵都会被发现并被处理，确保您拿到的产品完美无瑕。
我们提供定制化解决方案
我们有专属的材料科学家及工程师团队为您提供完善的定制化服务。 从尺寸形状，到产品性状属性要求，甚至我们还能与您共同研发，提供靶材的结构、成分等设计和开发服务，真正从您的需求出发，制造您满意的产品。
追求卓越品质，我们始终如一
高水平的研发团队是卓越品质的基石，而员工们对靶材事业的热爱与激情举足轻重。 值得一提的是，即使是基层员工，都持有公司的股份。在六九科技，您的靶材将被每一位员工认真对待，就像对待他们的孩子一样。 欢迎您到访六九科技，感受我们对靶材事业的热爱与激情。
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我们提供定制化解决方案
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