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铜靶材

铜靶材是真空镀膜行业溅射靶材中的一种,是高纯铜材料经过一系列加工后的产品,具有特定的尺寸和形状。由于高纯铜具有许多优良的性质,广泛应用于电子、通信、超导等领域。 铜靶材适用于直流二溅射、三溅射、四溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等,可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等,相对其它靶材,铜靶材的价格较低,所以铜靶材是在能满足膜层的功能前提下的低成本靶材材料。

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铜靶材

铜靶材是真空镀膜行业最普遍的靶材之一。相对其它靶材,铜靶材的价格较低,所以铜靶材是在能满足膜层的功能前提下的重要靶材料。铜靶材可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等。

产品名称(at%)

Composition

铜(CU)

纯度

≥99.9%

密度

8.96 g/cm3

熔点

1083.4

热膨胀

(25)16.5 μm/(m.k)

热导率

401 W/(m.k)

电阻率

1.75×10-5μΩm

晶体类型

面心立方

尺寸规格

平面&管,可根据要求定制 

图片名称

高效、耐用、可靠

我们生产的靶材具有卓越的纯度、密度和更小的晶粒度等优势,这在行业内有口皆碑。 这些卓越属性有助于在基材上形成更坚实、致密、光滑的涂层,从而保证您拥有高效、耐用、可靠的产品体验。 如何做到?在原料端,我们只采用高品质的原材料,并严格保证使用原材料的规范性;在生产端,我们的员工拥有数十年的生产经验,非常了解如何制造高品质的靶材产品;在质检端,规范的质检流程及专业精密设备让产品的任何瑕疵都会被发现并被处理,确保您拿到的产品完美无瑕。
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我们提供定制化解决方案

我们有专属的材料科学家及工程师团队为您提供完善的定制化服务。 从尺寸形状,到产品性状属性要求,甚至我们还能与您共同研发,提供靶材的结构、成分等设计和开发服务,真正从您的需求出发,制造您满意的产品。
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追求卓越品质,我们始终如一

高水平的研发团队是卓越品质的基石,而员工们对靶材事业的热爱与激情举足轻重。 值得一提的是,即使是基层员工,都持有公司的股份。在六九科技,您的靶材将被每一位员工认真对待,就像对待他们的孩子一样。 欢迎您到访六九科技,感受我们对靶材事业的热爱与激情。
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